点击图片查看原图
充电装置的基本要求
电晕充电装置配有高压发生器，将高电下施加于电极上以产生强电场，使周围空气
电离并发生电晕放电.靠电场力的作用，将某种极性的离子吸附在光导层表面.对于充
电装置和转印装置，一般采ill直流电晕放电，以保证光导层表面和转印介质表面的静电
荷稳定.而对千消电装置，有的机器是采用交流电晕放电，而有的机器采用直流电晕放
电，即极性和免电相反.
为使充电装置能获得理想的充电效果，须提出下列要求:
(1)对于光导层表面，应能在规定时间内带上静电荷，并要求其极性正确，密度适
当，分布均匀，
(z)由于使用条件和周围环境会有所改变，例如温度和湿度的变化，为此，要求充
电装FL应具有一定的调整范田，以消除或弥补其对复印质量的影响;
(3)要求充电装段经久耐用、安全可袋;
(4)当电源电压及领率有波动时，·充电装置性能应稳定，即输出特性基本不变，
(5)充电装置和负我(空气隙、光导体等)阻抗应互相匹配，方能发挥最高效率.
当前.国内外均采用屯晕法充电，整个装置的结构简单，性能可靠，所形成的表面
电位高，静电荷密度分布均匀.但其要求6-7kV的高电压，致使高压电源的结构复
杂.而环境条件(温度和M.度)变化时，对于充电效果会有影响.由于空气的电离，将产
生臭氧(Os)，对人体健康有一定的影响
如附图所示，首先把构成墨粉组份原料(树脂、CCA.颜料、促溶济
等)加到高压溶融釜内，再把容器中的空气抽空，然后用高压泵注入二氧化碳，
控制t>31.10C，当Ps>7.4Mpa后的某一压力时，使其处于能溶解热熔树脂的超
临界态，启动搅拌装置，将不能溶于超临界流体的颜料等悬浮在流体中，从理论
上，可认为颜料与CCA在树脂溶液中的分布可达到理想的均一化，控制溶融釜
与喷雾室的压力关保持衡定，就可得到球形墨粉。如图()，如果作成像图中
(b)形状的墨粉，更能使外添的Si02发抖其活性作用。采用超临界流体喷雾
造粒方法，配方中无需加腊，由于不必考虑树脂的粉碎性，对于材料的选择空间
更广了。但技术难点是:高压技术，搅拌技术，及促溶剂的改性与开发，喷雾造
粒的控制技术。由于溶喷法已在粉末涂料行业得到应用已取得成功，用该法制造
墨粉是迟早的事情二
配料系统[b】日[[I b]阀门、加压泵、溶料反应釜、喷雾室、喷嘴
曝光装置是一种成像装置，即在静电复印过程中，将原稿图像通过光源及光今不统
所形成的光像，最终在光导层表面形成0电潜像.
曝光装置性能的好坏和曝光光源的特性，对于复印质量有直接影响.因此，应满足
下列要求:
·光源和镜头的光谱响应，应与光导体相匹配，
·光源有足够的光强，能在较短的时间内使敏化的光导体迅速消电，
二应选用电功率小和发光效率高的光源以减少其功率消耗，
·光路系统调节性能要好，通光效率应高，即光的损耗少厂
·光路系统与光导体的同步误差不得大于。. 5 %;
·在设计允许的条件下，曝光装置的结构应使原稿得到最大的照度，并保证对原稿
，整个照射面积上的照度均匀，
·曝光装置应有良好的散热措施，特别是用热光源时，其稿台坡19表面的温度，应
保证在连续复印时，不超过700C,
