曝光装置是一种成像装置,即在静电复印过程中,将原稿图像通过光源及光今不统
所形成的光像,最终在光导层表面形成0电潜像.
曝光装置性能的好坏和曝光光源的特性,对于复印质量有直接影响.因此,应满足
下列要求:
·光源和镜头的光谱响应,应与光导体相匹配,
·光源有足够的光强,能在较短的时间内使敏化的光导体迅速消电,
二应选用电功率小和发光效率高的光源以减少其功率消耗,
·光路系统调节性能要好,通光效率应高,即光的损耗少厂
·光路系统与光导体的同步误差不得大于。. 5 %;
·在设计允许的条件下,曝光装置的结构应使原稿得到最大的照度,并保证对原稿
,整个照射面积上的照度均匀,
·曝光装置应有良好的散热措施,特别是用热光源时,其稿台坡19表面的温度,应
保证在连续复印时,不超过700C,
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目前存在于自然界的物质,在常温常压环境条件下会表现出固态、液态
或气态的存在形式例如水呈现是液态C02呈现气态如果把C02降温到一78.5
℃,会变为固态。科学家发现当C02处于温度为31.1 0C,压力为7.4Mpa时会
处在一个非液非气的混沌状态,此时,它具有液体对溶质的溶解性,又兼有气态
物质的高扩散分散性,这时的C02被称为是C02的超临界流体。目前,把C02
超临界流体作为加工介夙主要应用于萃取技术近来美国Ferros公司把C02
超临界流体溶喷技术已应用于制造粉末涂料,实现了产业化,它为墨粉制造的新
技术提供了新思路。目前湛江惠能墨业公司与上海华东理工大学合作,正在开展
把C02超临界流体做为加工介质,应用于制造墨粉的研究工作。
选用C02超临界流体作加工介质,是因为C02资源廉价,安全性好,
而且方便于在常温条件下用,没有污染环境问题,是目前应用超临界流体技术的
首选材料。
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如附图所示,首先把构成墨粉组份原料(树脂、CCA.颜料、促溶济
等)加到高压溶融釜内,再把容器中的空气抽空,然后用高压泵注入二氧化碳,
控制t>31.10C,当Ps>7.4Mpa后的某一压力时,使其处于能溶解热熔树脂的超
临界态,启动搅拌装置,将不能溶于超临界流体的颜料等悬浮在流体中,从理论
上,可认为颜料与CCA在树脂溶液中的分布可达到理想的均一化,控制溶融釜
与喷雾室的压力关保持衡定,就可得到球形墨粉。如图(),如果作成像图中
(b)形状的墨粉,更能使外添的Si02发抖其活性作用。采用超临界流体喷雾
造粒方法,配方中无需加腊,由于不必考虑树脂的粉碎性,对于材料的选择空间
更广了。但技术难点是:高压技术,搅拌技术,及促溶剂的改性与开发,喷雾造
粒的控制技术。由于溶喷法已在粉末涂料行业得到应用已取得成功,用该法制造
墨粉是迟早的事情二
配料系统[b】日[[I b]阀门、加压泵、溶料反应釜、喷雾室、喷嘴
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